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老化
源的准备：老化
初始化硼源片和磷源片是将其运用于生产的必要步骤。尽管源有一个无限期的保存期，但是我们仍然
建议在第一次生产前在预沉积温度将源老化。 这会保证源以均匀的速率演变成三氧化二磷或五氧化
二磷，所有的水分都被蒸发，任何残余切割和清洗液都被氧化。
一个典型的硼源片重量损失曲线的形状（图表1）
表明了三氧化二硼的浓度从里向外发生变化，三氧
化二硼会按照扩散时的速率进行演变。高速率演化
只会发生在硼源片很新时，随后演化率就会呈指数
下降，并很快变的相对稳定。所以，五氧化二磷的
演化率与磷源片的变化率很相似。因此，以获得最
佳效果，除非达到相对稳定的演变率否则源不可以
运用于生产。此文档给出了发展演化率的建议以便
于更好的准备源片。
老化过程
我们推荐在将硼源片第一次生产前需要在预沉积温度
下老化，程序如下：
把扩散源按照正常生产布局排列在扩散船中，为了达
到导热的目的，源片之间应该放置一个虚拟硅片。
把氮气流率调整为生产时的流率。其中应该包含25%的
氧气来氧化所有可能在切割和清洗过程中遗留下的有机
残余。
将载体插入扩散炉并倾斜炉达到老化温度（与预沉积温
度相同），使用在产品公告工艺处理程序里阐述的步骤。
在推荐的老化温度下，硼源片的最少老化次数如表格2，
磷源片见表格3.如果需要更多的老化次数，以上的步骤
可以在氮气有氧或无氧的情况下循环。
在老化的最后，用硅片代替虚拟硅片或者把舟存储起来
直到下次用时再取出（请见储存指导）
一旦最开始的老化完成后，就不需要再进行老化了。源随
时都可投入生产了，可以在老化温度（预沉积温度）下作
业，直到寿命结束。
如果想要在显著高于或低于预沉积温度的情况下（一般，
大于50°C）使用硼源片或者磷源片，应该在新的温度下
进行老化循环。这会在硼源间形成新的不同的三氧化二硼
浓度梯度， 磷源片上重复老化循环可以保证它们在一个
新温度下以稳定的速率演变五氧化二磷。
结论
在源片的准备过程中，老化是一个重要而且必要的过程。此
文的建议会帮助确保源片在半导体的生产中达到最好的效果。